[实用新型]一种半导体硅材料生长炉有效

专利信息
申请号: 201922357499.2 申请日: 2019-12-25
公开(公告)号: CN211734525U 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 李辉;秦英谡;穆童;郑锴;张熠 申请(专利权)人: 南京晶升能源设备有限公司
主分类号: C30B11/02 分类号: C30B11/02;C30B29/06
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 张弛
地址: 211113 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种半导体硅材料生长炉,包括炉体、位于炉体内的隔热层、加热器、坩埚,加热器围绕坩埚,隔热层围绕在坩埚及加热器外围,所述坩埚上方固定有坩埚上气罩;坩埚上气罩顶部连接有进气管,坩埚上气罩的两侧设有向加热器方向延伸出的气孔;所述隔热层内设有自下向上延伸的内置排气管,炉体外壁上方开有与排气管连通的抽气口,该方案中通过进气管、坩埚上气罩、内置排气管等结构,将溶液表面挥发出的一氧化硅及加热器挥发出的石墨排出炉体外,实现炉内无挥发物沉积,从而实现半导体长晶炉的清洁生产,提高晶体质量。
搜索关键词: 一种 半导体 材料 生长
【主权项】:
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