[实用新型]一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具有效
申请号: | 201922356261.8 | 申请日: | 2019-12-20 |
公开(公告)号: | CN210742673U | 公开(公告)日: | 2020-06-12 |
发明(设计)人: | 陈杰;姜巍 | 申请(专利权)人: | 上海凸版光掩模有限公司 |
主分类号: | G03F1/72 | 分类号: | G03F1/72 |
代理公司: | 北京专赢专利代理有限公司 11797 | 代理人: | 李斌 |
地址: | 200233 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具,包括六吋底座、五吋板、光罩夹、底座、站脚、第一滑块、压板和第二滑块,所述六吋底座内侧安装有五吋板,六吋底座外侧安装有底座,底座底端安装有站脚,底座侧边中部安装有第一滑块,第一滑块上端安装有压板,压板上端安装有第二滑块,五吋板上方设有光罩夹,光罩夹连接底座侧边。本实用新型结构合理,操作简单,能够有效的对6英寸的掩膜版进行修补工艺,避免将6英寸的掩膜版报废后重新生产,提高了掩膜版的生产效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 适用于 光刻 模版 缺陷 修补 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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