[实用新型]一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具

说明书

本实用新型公开了一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具，包括六吋底座、五吋板、光罩夹、底座、站脚、第一滑块、压板和第二滑块，所述六吋底座内侧安装有五吋板，六吋底座外侧安装有底座，底座底端安装有站脚，底座侧边中部安装有第一滑块，第一滑块上端安装有压板，压板上端安装有第二滑块，五吋板上方设有光罩夹，光罩夹连接底座侧边。本实用新型结构合理，操作简单，能够有效的对6英寸的掩膜版进行修补工艺，避免将6英寸的掩膜版报废后重新生产，提高了掩膜版的生产效率。

技术领域

本实用新型涉及掩膜版制造技术领域，具体是一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具。

背景技术

掩膜版在制造过程中因为各种原因，会产生各种各样的缺陷。常见的缺陷有铬点、针孔铬突出、铬缺失等，这些缺陷在使用中会造成晶圆的大量报废。所以为保证掩模版在晶圆厂使用过程中的良率，晶圆厂在掩模版出货前都要求对缺陷进行修补。快速有精准的修补工艺是对掩模版质量以及交货期的重要保证。目前在掩模版制造行业中，比较常见的修补工艺主要有两种，一是使用镭射激光产生高温将缺陷气化，从而达到修补的目的。二是使用聚焦离子束辅助以催化气体将缺陷蚀刻。镭射激光修补工艺的特点是修补速度快但修补精度较差。而聚焦离子束则反之，修补精度比较高但修补速度较慢。一般为了满足不同客户不同技术等级的需求，掩模厂都会配备这两种不同的修补工艺，以达到不同的修补目的。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具，包括六吋底座、五吋板、光罩夹、底座、站脚、第一滑块、压板和第二滑块，所述六吋底座内侧安装有五吋板，六吋底座外侧安装有底座，底座底端安装有站脚，底座侧边中部安装有第一滑块，第一滑块上端安装有压板，压板上端安装有第二滑块，五吋板上方设有光罩夹，光罩夹连接底座侧边。

作为本实用新型进一步的方案：所述底座设有两块,底座的形状为U形,每块底座底部设有两个站脚。

作为本实用新型进一步的方案：所述第一滑块、压板和第二滑块均设有两个，分为两组安装在两块底座上端中部。

作为本实用新型进一步的方案：所述第一滑块的形状为板状，第二滑块的形状为U形，第一滑块和第二滑块之间安装有压板。

作为本实用新型进一步的方案：所述压板上设有通孔，通孔设有四个，通孔和第二滑块连接。

作为本实用新型进一步的方案：所述底座的宽度为180mm，两块底座安装后的长度为220mm。

作为本实用新型进一步的方案：所述六吋底座的长度和宽度相同均为152mm，底座和站脚连接后的高度为35mm。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具适用于大小为5英寸，厚度为0.9英寸的5009型掩模版。此种载具的尺寸外观和6025型掩模版相同，搭配特殊设计的凹槽和锁紧机构，可以使5009掩模版简单的载入载出以及锁紧。并且5009放置在载具中时，可以连同载具一起放入SIR7修补机中进行缺陷修补，由于载具的尺寸大小重量等都和6025掩模版相近，所以可以使用6025相同的修补工艺对5009掩模版进行修补。本实用新型结构合理，操作简单，能够有效的对6英寸的掩膜版进行修补工艺，避免将6英寸的掩膜版报废后重新生产，提高了掩膜版的生产效率。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型中侧面的结构示意图。

图3为本实用新型中上端的结构示意图。