[实用新型]一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具有效
申请号: | 201922356261.8 | 申请日: | 2019-12-20 |
公开(公告)号: | CN210742673U | 公开(公告)日: | 2020-06-12 |
发明(设计)人: | 陈杰;姜巍 | 申请(专利权)人: | 上海凸版光掩模有限公司 |
主分类号: | G03F1/72 | 分类号: | G03F1/72 |
代理公司: | 北京专赢专利代理有限公司 11797 | 代理人: | 李斌 |
地址: | 200233 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 适用于 光刻 模版 缺陷 修补 | ||
1.一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具,包括六吋底座(1)、五吋板(2)、光罩夹(3)、底座(4)、站脚(5)、第一滑块(6)、压板(7)和第二滑块(8),其特征在于,所述六吋底座(1)内侧安装有五吋板(2),六吋底座(1)外侧安装有底座(4),底座(4)底端安装有站脚(5),底座(4)侧边中部安装有第一滑块(6),第一滑块(6)上端安装有压板(7),压板(7)上端安装有第二滑块(8),五吋板(2)上方设有光罩夹(3),光罩夹(3)连接底座(4)侧边。
2.根据权利要求1所述的适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具,其特征在于,所述底座(4)设有两块,底座(4)的形状为U形,每块底座(4)底部设有两个站脚(5)。
3.根据权利要求2所述的适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具,其特征在于,所述第一滑块(6)、压板(7)和第二滑块(8)均设有两个,分为两组安装在两块底座(4)上端中部。
4.根据权利要求3所述的适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具,其特征在于,所述第一滑块(6)的形状为板状,第二滑块(8)的形状为U形,第一滑块(6)和第二滑块(8)之间安装有压板(7)。
5.根据权利要求3所述的适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具,其特征在于,所述压板(7)上设有通孔,通孔设有四个,通孔和第二滑块(8)连接。
6.根据权利要求5所述的适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具,其特征在于,所述底座(4)的宽度为180mm,两块底座(4)安装后的长度为220mm。
7.根据权利要求6所述的适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具,其特征在于,所述六吋底座(1)的长度和宽度相同均为152mm,底座(4)和站脚(5)连接后的高度为35mm。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备