[实用新型]氮化镓MOSFET封装应力检测结构有效
申请号: | 201922112539.7 | 申请日: | 2019-12-01 |
公开(公告)号: | CN210689877U | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 赵成;王毅 | 申请(专利权)人: | 扬州扬杰电子科技股份有限公司 |
主分类号: | G01L1/18 | 分类号: | G01L1/18;H01L23/31;H01L23/495 |
代理公司: | 扬州市苏为知识产权代理事务所(普通合伙) 32283 | 代理人: | 葛军 |
地址: | 225008 江苏省扬*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 氮化镓MOSFET塑封应力检测结构、涉及功率半导体器件技术领域,尤其涉及氮化镓MOSFET塑封应力检测结构。提供了一种方便检测,提供检测可靠性的氮化镓MOSFET塑封应力检测结构。包括芯片、引线框架以及覆盖在芯片、引线框架上的塑封层,所述芯片包括衬底、制作在衬底上的氮化镓MOSFET结构层、制作在衬底底部的压阻、制作在衬底底面上的绝缘层、制作在绝缘层上的电极层,所述衬底的材料为单晶硅。本实用新型的氮化镓MOSFET塑封应力检测结构的制备工艺与常规氮化镓MOSFET芯片制备和封装工艺兼容,制备过程简单易行。 | ||
搜索关键词: | 氮化 mosfet 封装 应力 检测 结构 | ||
【主权项】:
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