[实用新型]一种钟罩式气相化学沉积炉有效
申请号: | 201921269635.6 | 申请日: | 2019-08-07 |
公开(公告)号: | CN210341056U | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
发明(设计)人: | 王勇;朱雪峰;何飞 | 申请(专利权)人: | 成都四盛科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00 |
代理公司: | 成都东唐智宏专利代理事务所(普通合伙) 51261 | 代理人: | 罗言刚 |
地址: | 610000 四川省成都市龙泉驿区龙*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种钟罩式气相化学沉积炉,包括基座、钟罩沉积炉本体、水平螺纹柱和插销,所述基座上设置有钟罩沉积炉本体,所述水平螺纹柱贯穿调节窗,且水平螺纹柱上安装有紧固螺母,并且水平螺纹柱固定在操作板上,同时操作板与齿轮筒相互连接,所述齿轮筒上固定有连接杆,且连接杆与限位板相互连接,并且限位板上开设有通孔,所述插销贯穿通孔,且插销的底端固定有定位板,并且定位板的底端与底槽相互连接,且底槽开设在基座上端面。该钟罩式气相化学沉积炉,采用新型的结构设计,使得本装置可以对钟罩沉积炉本体进行限位固定,令钟罩沉积炉本体不会轻易晃动移位,且能与基座紧密贴合接触,避免由于接触不紧密造成的气密性不足。 | ||
搜索关键词: | 一种 钟罩式气相 化学 沉积 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的