[实用新型]一种对准效果好的防焊曝光偏移的装置有效
申请号: | 201921189695.7 | 申请日: | 2019-07-26 |
公开(公告)号: | CN211792306U | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
发明(设计)人: | 陈伟淇 | 申请(专利权)人: | 重庆伟鼎电子科技有限公司 |
主分类号: | H05K3/28 | 分类号: | H05K3/28 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 402560 重庆市铜梁*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 本实用新型涉及防焊技术领域,且公开了一种对准效果好的防焊曝光偏移的装置,包括安装基板,所述安装基板的顶部固定安装有安装支板,两个所述安装支板的相对面均固定安装有固定块,两个所述固定块的相对面均固定安装有数量为两个的固定支架,顶部所述固定支架的内部固定安装有螺纹圈,所述螺纹圈的内表面活动连接有螺丝杆,顶部所述固定支架的底部固定安装有固定圈。该对准效果好的防焊曝光偏移的装置,当使用者杂使用该装置时,将测量物放置在两个固定支架之间,然后转动螺丝杆顶部的旋钮并使旋钮带动螺丝杆在螺纹圈的作用下向下移动,从而完成了对曝光处的定位,从而使该装置方便对准曝光部位,方便了使用者使用。 | ||
搜索关键词: | 一种 对准 效果 曝光 偏移 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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