[实用新型]一种PECVD设备内壁污染保护装置

摘要

本实用新型公开一种PECVD设备内壁污染保护装置，涉及真空镀膜领域，所述PECVD设备内壁污染保护装置包括：铁磁性钢条，所述铁磁性钢条固定安装于PECVD设备的真空罐体内壁；铝箔，所述铝箔铺设于铁磁性钢条的表面，并通过若干耐高温磁铁与铁磁性钢条相连；耐高温磁铁，所述耐高温磁铁与铁磁性钢条吸附配合，并将铝箔夹设于二者之间。本实用新型通过在真空罐体内壁安装铁磁性钢条，将同样放气量小的铝箔作为衬里，并以耐高温磁铁来压附铝箔，可在保证良好的导电性的同时有效阻隔污染物，从而保护真空罐体内壁；本实用新型装置成本低廉、操作方便，适用于批量化生产的PECVD设备中。