[实用新型]一种PECVD设备内壁污染保护装置

说明书

本实用新型公开一种PECVD设备内壁污染保护装置，涉及真空镀膜领域，所述PECVD设备内壁污染保护装置包括：铁磁性钢条，所述铁磁性钢条固定安装于PECVD设备的真空罐体内壁；铝箔，所述铝箔铺设于铁磁性钢条的表面，并通过若干耐高温磁铁与铁磁性钢条相连；耐高温磁铁，所述耐高温磁铁与铁磁性钢条吸附配合，并将铝箔夹设于二者之间。本实用新型通过在真空罐体内壁安装铁磁性钢条，将同样放气量小的铝箔作为衬里，并以耐高温磁铁来压附铝箔，可在保证良好的导电性的同时有效阻隔污染物，从而保护真空罐体内壁；本实用新型装置成本低廉、操作方便，适用于批量化生产的PECVD设备中。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域，特别涉及优化的真空镀膜设备领域，具体涉及一种PECVD设备内壁污染保护装置。

背景技术

等离子增强化学气相沉积技术(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition-PECVD)制备的涂层具有致密、光滑、高硬度、耐腐蚀、生物兼容性诸多优点，这也是物理气相沉积技术所达不到的。

以类金刚石涂层为例，PECVD技术制备涂层的过程如下：将真空室气压抽至3×10^-3Pa以下，并对真空室内壁进行烘烤30min以上，烘烤完毕后向真空室内充入惰性气体(一般为Ar)，稳定在2～3Pa后，在工件上施加负偏压(﹣1～﹣6KV)，大量电子在工件表面聚集，并在真空状态下从其表面逃逸出来，电子受到真空壁(阳极)的吸引而加速，在行进过程中与真空室内的惰性气体分子发生碰撞，造成气体分子的电离，生成了惰性气体的等离子体状态。等离子体状态是由带正电的离子、活性基团、基态原子(分子)组成的混合状态。带正电的惰性气体离子受到工件(带负电)的吸引而加速，在加速过程中可能会与其他原子(离子)发生多次碰撞，产生更多的等离子体，最终会有大量的惰性气体离子轰击到工件表面，造成工件表面的氧化物和杂质被刻蚀，实现了工件表面的等离子体清洗。当然，也可以采用电子枪或弧源方式进行清洗。和等离子清洗原理相似，工件经清洗完毕后，在不降低电压的情况下，向真空内直接充入碳氢气体等，电子轰击这些气体分子将其电离，和惰性气体不同的是，带正电的这些离子轰击到工件表面，获得电子后不会变成气体脱离表面(惰性气则直接脱离工件表面)，而是以固态的形式直接沉积下来，形成了碳氢涂层，也就是类金刚石涂层，类金刚石涂层具有高的硬度(通常为金刚石的30％左右，HV3000)、低的摩擦系数、好的耐腐蚀性能等特点。

由于PECVD制备涂层采用的是气体沉积技术，使用碳氢气体或者金属蒸汽在等离子状态下发生化学反应，低能量的阳离子、副产物或其他物质最终会在真空罐体内壁聚集，形成疏松的涂层或絮状物，造成设备的污染。现有的设备一般采用不锈钢衬板对内壁进行保护，并用插销、别针、螺丝等方式连接，但其拆卸和安装过程异常麻烦，且拆卸下来的衬板还需要进行喷砂或化学退镀等方式清理污染物，对生产的便捷性不利。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种新型PECVD设备内壁污染保护装置，旨在解决现有PECVD设备采用不锈钢衬板对内壁进行保护而带来的安装拆卸麻烦、生产便捷性不高的问题。

为实现上述目的，本实用新型提出一种PECVD设备内壁污染保护装置，用于PECVD设备，所述PECVD设备内壁污染保护装置包括：

铁磁性钢条，所述铁磁性钢条固定安装于PECVD设备的真空罐体内壁；

铝箔，所述铝箔铺设于铁磁性钢条的表面，并通过若干耐高温磁铁与铁磁性钢条相连；

耐高温磁铁，所述耐高温磁铁与铁磁性钢条吸附配合，并将所述铝箔夹设于二者之间。

作为本实用新型的优选方式之一，所述铁磁性钢条具体为表面设有Cr防锈层/Ni防锈层的45#或55#钢条。

作为本实用新型的优选方式之一，所述铁磁性钢条的宽度为15～30mm，厚度为2～3mm，铁磁性钢条与真空罐体内壁之间通过焊接或者螺钉方式相固定。