[实用新型]一种PECVD设备内壁污染保护装置有效
| 申请号: | 201921111597.1 | 申请日: | 2019-07-16 |
| 公开(公告)号: | CN210314477U | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
| 发明(设计)人: | 李灿民;陶满;李亚军;张胜利 | 申请(专利权)人: | 合肥永信信息产业股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 合肥兴东知识产权代理有限公司 34148 | 代理人: | 王伟 |
| 地址: | 230001 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 pecvd 设备 内壁 污染 保护装置 | ||
1.一种PECVD设备内壁污染保护装置,用于PECVD设备,其特征在于,所述PECVD设备内壁污染保护装置包括:
铁磁性钢条,所述铁磁性钢条固定安装于PECVD设备的真空罐体内壁;
铝箔,所述铝箔铺设于铁磁性钢条的表面,并通过若干耐高温磁铁与铁磁性钢条相连;
耐高温磁铁,所述耐高温磁铁与铁磁性钢条吸附配合,并将所述铝箔夹设于二者之间。
2.根据权利要求1所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述铁磁性钢条具体为表面设有Cr防锈层/Ni防锈层的45#或55#钢条。
3.根据权利要求1所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述铁磁性钢条的宽度为15~30mm,厚度为2~3mm,铁磁性钢条与真空罐体内壁之间通过焊接或者螺钉方式相固定。
4.根据权利要求1所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述铝箔具体为高纯铝箔,厚度为18~50μm。
5.根据权利要求1所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述耐高温磁铁具体为钕铁硼制耐高温磁铁;各耐高温磁铁沿铁磁性钢条上铝箔的表面相应位置等距分布,间距为20~40cm。
6.根据权利要求1所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述耐高温磁铁的形状为正方体或圆柱体。
7.根据权利要求6所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述正方体耐高温磁铁的尺寸为4mm×4mm×8mm,圆柱体耐高温磁铁的尺寸为
8.根据权利要求1-7任一所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述PECVD设备的真空罐体包括真空罐体圆筒部分以及设置于真空罐体圆筒部分两侧、且整体呈弧状凸起的真空罐体双侧门部分;所述真空罐体圆筒部分的铁磁性钢条沿其内壁呈横向环形设置,且自上而下依次分布有若干道;所述真空罐体双侧门部分的铁磁性钢条沿其内壁呈纵向环形设置,且分别设置有两道,两道呈纵向环形设置的铁磁性钢条之间通过若干呈放射状的铁磁性钢条相接。
9.根据权利要求8所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述真空罐体圆筒部分上的各道铁磁性钢条之间的间距为40~60cm;
所述真空罐体双侧门部分上的两道呈纵向环形设置的铁磁性钢条分别设置于靠近门框外周的边缘处以及靠近门框弧状凸起中心处。
10.根据权利要求8所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述真空罐体圆筒部分与真空罐体双侧门部分上均分别安装有若干观察窗,各铁磁性钢条的设置均避开观察窗。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥永信信息产业股份有限公司,未经合肥永信信息产业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921111597.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种工业废气处理喷淋装置
- 下一篇:一种低温储藏酒水的单层储罐
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





