[实用新型]一种PECVD设备内壁污染保护装置有效

专利信息
申请号: 201921111597.1 申请日: 2019-07-16
公开(公告)号: CN210314477U 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 李灿民;陶满;李亚军;张胜利 申请(专利权)人: 合肥永信信息产业股份有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44
代理公司: 合肥兴东知识产权代理有限公司 34148 代理人: 王伟
地址: 230001 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 pecvd 设备 内壁 污染 保护装置
【权利要求书】:

1.一种PECVD设备内壁污染保护装置,用于PECVD设备,其特征在于,所述PECVD设备内壁污染保护装置包括:

铁磁性钢条,所述铁磁性钢条固定安装于PECVD设备的真空罐体内壁;

铝箔,所述铝箔铺设于铁磁性钢条的表面,并通过若干耐高温磁铁与铁磁性钢条相连;

耐高温磁铁,所述耐高温磁铁与铁磁性钢条吸附配合,并将所述铝箔夹设于二者之间。

2.根据权利要求1所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述铁磁性钢条具体为表面设有Cr防锈层/Ni防锈层的45#或55#钢条。

3.根据权利要求1所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述铁磁性钢条的宽度为15~30mm,厚度为2~3mm,铁磁性钢条与真空罐体内壁之间通过焊接或者螺钉方式相固定。

4.根据权利要求1所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述铝箔具体为高纯铝箔,厚度为18~50μm。

5.根据权利要求1所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述耐高温磁铁具体为钕铁硼制耐高温磁铁;各耐高温磁铁沿铁磁性钢条上铝箔的表面相应位置等距分布,间距为20~40cm。

6.根据权利要求1所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述耐高温磁铁的形状为正方体或圆柱体。

7.根据权利要求6所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述正方体耐高温磁铁的尺寸为4mm×4mm×8mm,圆柱体耐高温磁铁的尺寸为

8.根据权利要求1-7任一所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述PECVD设备的真空罐体包括真空罐体圆筒部分以及设置于真空罐体圆筒部分两侧、且整体呈弧状凸起的真空罐体双侧门部分;所述真空罐体圆筒部分的铁磁性钢条沿其内壁呈横向环形设置,且自上而下依次分布有若干道;所述真空罐体双侧门部分的铁磁性钢条沿其内壁呈纵向环形设置,且分别设置有两道,两道呈纵向环形设置的铁磁性钢条之间通过若干呈放射状的铁磁性钢条相接。

9.根据权利要求8所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述真空罐体圆筒部分上的各道铁磁性钢条之间的间距为40~60cm;

所述真空罐体双侧门部分上的两道呈纵向环形设置的铁磁性钢条分别设置于靠近门框外周的边缘处以及靠近门框弧状凸起中心处。

10.根据权利要求8所述的PECVD设备内壁污染保护装置,其特征在于,所述真空罐体圆筒部分与真空罐体双侧门部分上均分别安装有若干观察窗,各铁磁性钢条的设置均避开观察窗。

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