[实用新型]一种半导体芯片研磨用清洁装置有效

专利信息
申请号: 201921105560.8 申请日: 2019-07-15
公开(公告)号: CN210434944U 公开(公告)日: 2020-05-01
发明(设计)人: 殷泽安;殷志鹏 申请(专利权)人: 苏州译品芯半导体有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;H01L21/304
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215143 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种半导体芯片研磨用清洁装置,包括底座,所述底座上端面左侧设置有横向滑轨,所述横向滑轨上滑动设置有滑板,所述滑板上固定设置有竖板,所述竖板中间设置有安装板,所述安装板上端面右侧设置有喷水清洁装置,所述安装板底端面右侧安装有第一电机,所述第一电机输出端固定连接有研磨轮,所述横向滑轨左侧设置有驱动装置,结构简单,构造清晰易懂,能够实现研磨轮的水平运动和升降运动,对物料槽内的若干芯片进行研磨,实现多组芯片同步研磨作业,效率高,此外,研磨过程中,通过水泵对研磨面进行喷水清洁,并对研磨面进行降温,保证研磨质量和设备使用寿命,操作简单,值得推广。
搜索关键词: 一种 半导体 芯片 研磨 清洁 装置
【主权项】:
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