[实用新型]改善气体分布的沉积室及MPCVD装置

摘要

本实用新型属于微波等离子体化学气相沉积技术领域，具体涉及一种改善气体分布的沉积室及MPCVD装置。沉积室包括基部、外罩体及沉积台；所述外罩体密封安装在基部上，以与所述基部围成反应腔；所述沉积台，设置在基部的朝向反应腔的一侧；所述基部上设有与所述反应腔连通的进气通道和排气通道；改善气体分布的沉积室还包括处于外罩体内侧、并向反应腔上部延伸的导气通道；所述导气通道与所述进气通道对接连通；所述导气通道上部与反应腔连通，以将进气通道输入的气体引导至反应腔上部。导气通道将进入沉积室内的气体向上引导，确保气体在从排气通道排出前经过沉积台，提高气体的利用率，同时提高沉积装置的反应效率。