[实用新型]一种引线框架的蚀刻设备有效
| 申请号： | 201920961007.8 | 申请日： | 2019-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN209843664U | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | 刘帅帅;王一朝 | 申请（专利权）人： | 天水迈格智能设备有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/48 | 分类号： | H01L21/48;H01L21/67 |
| 代理公司： | 51230 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵宇 |
| 地址： | 741024 甘肃省天水市天水经济*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及引线框架加工技术领域，公开了一种引线框架的蚀刻设备，包括无盖的蚀刻箱，蚀刻箱内横向间隔设有蚀刻室、漂洗室，蚀刻箱上方横向设有螺纹轴，蚀刻室、漂洗室所对螺纹轴的导程为整数，且蚀刻室与漂洗室相邻距离、蚀刻箱的壁厚远小于螺纹轴的导程，螺纹轴上套设有与其螺纹传动配合的环形传动体，环形传动体上固定设有可沿环形面转动的弹性夹板，蚀刻箱的一侧设有带动螺纹轴转动的动力机构，蚀刻箱的一侧设有与动力机构连接的供电箱。本实用新型一方面解决了现有蚀刻设备蚀刻和清洗工作分开进行，增加了蚀刻工艺的复杂性，降低了引线框架的生产效率，另一方面解决了原工件浸入蚀刻液时，原工件蚀刻成型情况不易观察的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 螺纹轴 引线框架 漂洗室 蚀刻室 本实用新型 动力机构 环形传动 蚀刻设备 导程 转动 加工技术领域 螺纹传动配合 弹性夹板 横向间隔 生产效率 蚀刻工艺 相邻距离 浸入 供电箱 环形面 蚀刻液 壁厚 上套 无盖 成型 清洗 观察 | ||
【主权项】：
1.一种引线框架的蚀刻设备，包括无盖的蚀刻箱(1)，其特征在于，所述蚀刻箱(1)内横向间隔设有蚀刻室(102)、漂洗室(101)，所述蚀刻箱(1)上方横向设有螺纹轴(6)，所述蚀刻室(102)、漂洗室(101)所对螺纹轴(6)的导程为整数，且蚀刻室(102)与漂洗室(101)相邻距离、蚀刻箱(1)的壁厚远小于螺纹轴(6)的导程，所述螺纹轴(6)上套设有与其螺纹传动配合的环形传动体(7)，所述环形传动体(7)上固定设有可沿环形面转动的弹性夹板(9)，所述蚀刻箱(1)的一侧设有带动螺纹轴(6)转动的动力机构，所述蚀刻箱(1)的一侧设有与动力机构连接的供电箱(16)。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
