[实用新型]一种10G抗反射分布反馈式激光器有效
| 申请号： | 201920785079.1 | 申请日： | 2019-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN209993866U | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 董延;李马惠;潘彦廷;庄文杰;王良波;朱振斌;周桂林;杨毅;陈文君 | 申请（专利权）人： | 陕西源杰半导体技术有限公司;华为技术有限公司;博创科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/12 | 分类号： | H01S5/12;H01S5/22 |
| 代理公司： | 61200 西安通大专利代理有限责任公司 | 代理人： | 李鹏威 |
| 地址： | 712000 陕西省咸阳市西咸新区沣西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种10G抗反射分布反馈式激光器，包括基板和和依次设置在基板上的有源区、第一包层和衍射光栅层，第一包层和衍射光栅层一端设置有端面刻蚀区，端面刻蚀区底部位于基板内，且端面刻蚀区内生长有抗反射改善层；衍射光栅层和抗反射层上依次覆盖有第二包层、接触层和p‑金属电极层，基板下表面镀有n‑金属电极层，抗反射层的一端镀上抗反射镀膜层，另一端镀上高反射镀膜层。对接区域的光波导层厚度加厚，有效的提高了有源区光耦合至光波导层的耦光效率；并且出光端面的反射光在经过光波导的反向传输路径中，能有效衰减至不影响原激光器增益区域的谐振行为。 | ||
| 搜索关键词： | 衍射光栅层 包层 基板 刻蚀 金属电极层 光波导层 抗反射层 抗反射 源区 分布反馈式激光器 抗反射镀膜层 本实用新型 基板下表面 激光器增益 加厚 对接区域 反向传输 谐振行为 一端设置 依次设置 有效衰减 耦光效率 出光端 镀膜层 反射光 高反射 光波导 光耦合 接触层 生长 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种10G抗反射分布反馈式激光器，其特征在于，包括基板(10)，所述基板(10)上端沿水平方向设置有源区(11)和光波导层(21)，所述有源区(11)上端面自下至上依次设置有第一包层(12)和衍射光栅层(13)，所述光波导层(21)上生长有InP层(20)，所述光波导层(21)靠近有源区(11)一侧的上端面高于衍射光栅层(13)的上端面，光波导层(21)下端面低于有源区(11)的下端面。/n
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