[实用新型]流体混合装置及刻蚀设备有效
| 申请号： | 201920365410.4 | 申请日： | 2019-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN209810109U | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 马鹏伟 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | B01F15/04 | 分类号： | B01F15/04;B01F3/08;H01L21/67 |
| 代理公司： | 11438 北京律智知识产权代理有限公司 | 代理人： | 袁礼君;阚梓瑄 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及半导体技术领域，提出一种流体混合装置及刻蚀设备。该流体混合装置包括混合阀、混合器以及预排器；混合阀连接有第一流体供应装置和第二流体供应装置，第一流体供应装置和第二流体供应装置分别向混合阀供应第一流体和第二流体，混合阀输出第一流体和第二流体的混合物；混合器通过第一管道连接于混合阀的出液口，第一管道上设有第一控制阀门；预排器通过第二管道连接于混合阀的出液口，第二管道上设有第二控制阀门。使用本实用新型的流体混合装置使刻蚀液浓度稳定，不会对晶圆的刻蚀量产生影响，不会影响产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 混合阀 第二流体 第一流体 供应装置 流体混合装置 混合器 本实用新型 第二管道 第一管道 控制阀门 出液口 排器 半导体技术领域 刻蚀设备 浓度稳定 影响产品 混合物 刻蚀液 晶圆 刻蚀 良率 输出 | ||
【主权项】：
1.一种流体混合装置，其特征在于，包括：/n混合阀，所述混合阀连接有第一流体供应装置和第二流体供应装置，所述第一流体供应装置和所述第二流体供应装置分别向所述混合阀供应第一流体和第二流体，所述混合阀输出所述第一流体和所述第二流体的混合物；/n混合器，所述混合器通过第一管道连接于所述混合阀的出液口，所述第一管道上设有第一控制阀门；/n预排器，所述预排器通过第二管道连接于所述混合阀的出液口，所述第二管道上设有第二控制阀门。/n
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