[实用新型]一种装载金属基底制备石墨烯薄膜的样品托组件有效
| 申请号： | 201920315128.5 | 申请日： | 2019-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN209890733U | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 蔡金明;侯元捷;蔡晓明 | 申请（专利权）人： | 广东墨睿科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/26;C01B32/186 |
| 代理公司： | 44450 东莞科强知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 肖冬 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市道滘镇万道路*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及石墨烯制备技术领域，具体涉及一种装载金属基底制备石墨烯薄膜的样品托组件。其包括：一个支撑主体，支撑主体包括两个平面段和一个螺旋段，两个平面段分别位于该螺旋段的两侧且与螺旋段的两端相切，两个平面段用于固定金属基底，螺旋段用于支撑金属基底；多个连接件，连接件包括一块抵接块、一块固定块和至少一块连接块，抵接块的一侧面与平面段的外侧面相抵，连接块的一端与抵接块固定连接，连接块的另一端与固定块连接，固定块与平面段的内侧面之间形成用于安装金属基底的安装空间。本技术方案通过设置支撑主体和连接件，将金属基底呈螺旋状的固定在支撑主体的内侧面，增大金属基底的使用面积，增大沉积的石墨烯薄膜面积。 | ||
| 搜索关键词： | 金属基 平面段 支撑主体 螺旋段 抵接块 固定块 连接件 石墨烯薄膜 侧面 制备技术领域 本实用新型 安装空间 呈螺旋状 固定金属 石墨烯 外侧面 样品托 沉积 基底 相切 制备 装载 相抵 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种装载金属基底制备石墨烯薄膜的样品托组件，其特征在于：其包括：/n一个支撑主体，所述支撑主体包括两个平面段和一个螺旋段，两个平面段分别位于该螺旋段的两侧且与螺旋段的两端相切，两个平面段用于固定金属基底，螺旋段用于支撑金属基底；/n多个连接件，连接件包括一块抵接块、一块固定块和至少一块连接块，所述抵接块的一侧面与平面段的外侧面相抵，连接块的一端与抵接块固定连接，连接块的另一端与固定块连接，固定块与平面段的内侧面之间形成用于安装金属基底的安装空间。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
