[实用新型]一种装载金属基底制备石墨烯薄膜的样品托组件有效
申请号: | 201920315128.5 | 申请日: | 2019-03-13 |
公开(公告)号: | CN209890733U | 公开(公告)日: | 2020-01-03 |
发明(设计)人: | 蔡金明;侯元捷;蔡晓明 | 申请(专利权)人: | 广东墨睿科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/26;C01B32/186 |
代理公司: | 44450 东莞科强知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 肖冬 |
地址: | 523000 广东省东莞市道滘镇万道路*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 金属基 平面段 支撑主体 螺旋段 抵接块 固定块 连接件 石墨烯薄膜 侧面 制备技术领域 本实用新型 安装空间 呈螺旋状 固定金属 石墨烯 外侧面 样品托 沉积 基底 相切 制备 装载 相抵 支撑 | ||
1.一种装载金属基底制备石墨烯薄膜的样品托组件,其特征在于:其包括:
一个支撑主体,所述支撑主体包括两个平面段和一个螺旋段,两个平面段分别位于该螺旋段的两侧且与螺旋段的两端相切,两个平面段用于固定金属基底,螺旋段用于支撑金属基底;
多个连接件,连接件包括一块抵接块、一块固定块和至少一块连接块,所述抵接块的一侧面与平面段的外侧面相抵,连接块的一端与抵接块固定连接,连接块的另一端与固定块连接,固定块与平面段的内侧面之间形成用于安装金属基底的安装空间。
2.根据权利要求1所述的一种装载金属基底制备石墨烯薄膜的样品托组件,其特征在于:所述固定块倾斜设置,固定块远离连接块的一端与抵接块之间的距离较固定块与连接块的连接端与抵接块块之间的距离小,且固定块的外端部与平面段内侧面之间的间隙小于金属基底的厚度。
3.根据权利要求2所述的一种装载金属基底制备石墨烯薄膜的样品托组件,其特征在于:所述固定块设有螺纹孔,螺纹孔连接有螺杆。
4.根据权利要求3所述的一种装载金属基底制备石墨烯薄膜的样品托组件,其特征在于:抵接块外端部的端面设有插孔,连接件还包括竖直连接片,竖直连接片的两端分别插入位于平面段两侧的两个抵接块插孔,抵接块的侧面设有与插孔连通的固定孔,固定孔连接有固定件,固定件的端部与竖直连接片相抵。
5.根据权利要求1所述的一种装载金属基底制备石墨烯薄膜的样品托组件,其特征在于:连接件包括一块抵接块、一块固定块和两块连接块,抵接块的长度与平面段的宽度相等,两块连接块分别连接于抵接块的两端。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东墨睿科技有限公司,未经广东墨睿科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920315128.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种化学气相沉积设备及其恒压原料保护装置
- 下一篇:一种电火花沉积装置
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的