[实用新型]一种电感耦合等离子体蚀刻设备有效
| 申请号： | 201920293686.6 | 申请日： | 2019-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN209607696U | 公开（公告）日： | 2019-11-08 |
| 发明（设计）人： | 魏永吉;徐翊翔;许原豪 | 申请（专利权）人： | 福建晶安光电有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479 | 代理人： | 秦贺余 |
| 地址： | 362411 福建省*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种电感耦合等离子体蚀刻设备，包括处理腔室；源线圈，通过支撑装置设置在电介质盖的上方，用于将射频能量感应耦合至处理腔室中以在处理腔室中产生并维持等离子；衬底支撑装置，用于支撑所述衬底；其中，线圈的支撑装置包括支撑基座以及设置在支撑基座上的至少一个绝缘支撑柱，绝缘支撑柱以相对于支撑基座径向可调的方式设置在所述支撑基座上；并且绝缘支撑柱包括沿延伸至处理腔室外部的调整部件，调整部件调节绝缘支撑柱相对支撑基座的径向位置。通过上述调整部件，无需拆卸蚀刻设备，在蚀刻设备的外部即可实现源线圈位置的调整，节省了调整时间，操作简单，大大缩短源线圈位置的调整时间，提高机台的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑基座 绝缘支撑柱 蚀刻设备 处理腔室 调整部件 源线圈 电感耦合等离子体 支撑装置 机台 衬底支撑装置 本实用新型 电介质盖 方式设置 感应耦合 径向位置 射频能量 等离子 处理腔 可调的 室外部 衬底 拆卸 外部 延伸 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种电感耦合等离子体蚀刻设备，其特征在于，包括：处理腔室，上部具有电介质盖；源线圈，通过源线圈的支撑装置设置在所述电介质盖的上方，用于将射频能量感应耦合至所述处理腔室中以在所述处理腔室中产生并维持等离子；其中，所述源线圈的所述支撑装置包括支撑基座以及设置在所述支撑基座上的多个绝缘支撑柱，所述绝缘支撑柱以相对于所述支撑基座径向可调的方式设置在所述支撑基座上；并且所述绝缘支撑柱包括延伸至所述处理腔室外部的调整部件以及位于所述处理腔室内部支撑所述源线圈的支撑柱部分，所述调整部件调节所述绝缘支撑柱相对所述支撑基座的径向位置。
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