[实用新型]一种半导体基片传片时通气降低颗粒的装置有效

专利信息
申请号: 201920227187.7 申请日: 2019-02-22
公开(公告)号: CN211725070U 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 林鑫 申请(专利权)人: 林鑫
主分类号: B01D46/12 分类号: B01D46/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 041004 山西*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 实用新型公开了一种半导体基片传片时通气降低颗粒的装置,其结构包括网片、净化滤除装置、制动箱、支撑块、连接块、背箱,网片通过嵌入的方式安装在净化滤除装置正端面内部,净化滤除装置背部固定安装有制动箱,支撑块靠近净化滤除装置一端与制动箱固定连接在一起,连接块正端面与背箱背部为一体化结构,本实用新型一种半导体基片传片时通气降低颗粒的装置,并排入背箱内部,从而经过细滤后的空气在吸力作用下,通过支撑块导出,在制作完成后芯片的传片的过程中,通过通气降低芯片上的颗粒,当气体通过装置时,气体中的灰尘受到多层阻隔,阻挡在传片区域外,从而使芯片的保证通气效果。
搜索关键词: 一种 半导体 基片传 片时 通气 降低 颗粒 装置
【主权项】:
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