[发明专利]一种以高介电、宽带隙金属氧化物为绝缘层的有机薄膜晶体管及其制备方法与应用在审

专利信息
申请号: 201911395923.0 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN111081876A 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 宁洪龙;梁志豪;姚日晖;符晓;陈俊龙;周尚雄;张旭;梁宏富;朱镇南;彭俊彪 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/40;H01L51/10
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 苏运贞
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种以高介电、宽带隙金属氧化物为绝缘层的有机薄膜晶体管及其制备方法与应用。本发明提供的有机薄膜晶体管包括衬底以及在衬底上依次设置的栅极、金属氧化物绝缘层薄膜、有机有源层和源漏电极;所述的金属氧化物为氧化铪、氧化钇和氧化钛中的至少一种。本发明通过采用粗糙度低的金属氧化物绝缘层薄膜(通过AFM测试,粗糙度均在0.2nm以下),使绝缘层薄膜与有源层薄膜之间接触更好,更容易形成导电沟道,有源层中的载流子与空穴的更容易形成,且减少缺陷对载流子的捕获作用,使器件迁移率提高且阈值电压降低;同时,禁带间隙宽使得器件击穿电压更大、漏电流更小,使器件耐击穿性以及低功耗性得到提升。
搜索关键词: 一种 高介电 宽带 金属 氧化物 绝缘 有机 薄膜晶体管 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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