[发明专利]一种下电极组件及其等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 201911355593.2 申请日: 2019-12-25
公开(公告)号: CN113035682B 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 黄允文 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/67;H01L21/683
代理公司: 上海元好知识产权代理有限公司 31323 代理人: 徐雯琼;章丽娟
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种下电极组件及其等离子体处理装置,该下电极组件包括:静电夹盘,其包括承载面,用于承载待处理基片;若干个升降销孔贯通静电夹盘;各升降销分别位于各个升降销孔内;多孔套位于各个升降销孔内,环绕设置于各升降销的周围,多孔套与升降销之间具有间隙,多孔套内具有若干个孔隙,孔隙与间隙连通;气浮通道位于静电夹盘内,与多孔套内的孔隙连通;气体输送装置用于向气浮通道内输送气体,使多孔套与升降销之间形成气膜。其优点是:通过气体输送装置向气浮通道内输送气体,使多孔套与升降销之间形成气膜,可避免升降销与升降销孔之间的摩擦,因此升降销与升降销孔的缝隙可缩至非常小,从而能够抵抗很高电势和能量而不产生电弧。
搜索关键词: 一种 电极 组件 及其 等离子体 处理 装置
【主权项】:
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