[发明专利]一种IGBT芯片终端结构及IGBT芯片终端结构制作方法在审

专利信息
申请号: 201911333532.6 申请日: 2019-12-23
公开(公告)号: CN113097287A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 王耀华;金锐;高明超;李立;刘江;潘艳;吴军民 申请(专利权)人: 全球能源互联网研究院有限公司;国网山东省电力公司电力科学研究院;国家电网有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L21/331;H01L29/739
代理公司: 北京安博达知识产权代理有限公司 11271 代理人: 徐国文
地址: 102209 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种IGBT芯片终端结构及IGBT芯片终端结构制作方法,在N型衬底(1)的正面内部形成P型场限环(2)和镇流电阻区(3);在P型场限环(2)和镇流电阻区(3)正面形成氧化层;在氧化层的正面形成正面金属层(9),并在N型衬底(1)的背面形成背面结构,镇流电阻区(3)能够避免空穴电流集中和动态闩锁的发生,从而避免IGBT芯片在关断过程中烧毁失效,同时降低终端结构对应背面的P型集电区(11)的掺杂浓度,降低在IGBT芯片关断过程中的空穴电流密度,进一步提高IGBT芯片的抗动态闩锁能力和过电流关断能力。本发明还通过减小场板台阶处的刻蚀角度实现电场强度的降低,提高IGBT芯片在阻断态时的可靠性。
搜索关键词: 一种 igbt 芯片 终端 结构 制作方法
【主权项】:
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