[发明专利]一种优化原子层沉积的方法有效
| 申请号： | 201911321990.8 | 申请日： | 2019-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN113005424B | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 邓仕杰;黄如慧 | 申请（专利权）人： | 明基材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/02 | 分类号： | C23C16/02;C23C16/455;C23C16/40;H01L33/56 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 胡少青;许媛媛 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种优化原子层沉积的方法，包含下列步骤：(A)提供一纤维素纳米纤维；(B)以一酸化处理剂对纤维素纳米纤维进行一酸化处理；(C)以一疏水处理剂对经酸化处理的纤维素纳米纤维进行一疏水处理；(D)将经酸化及疏水处理的纤维素纳米纤维溶于一溶剂中，形成一纤维素纳米纤维溶液；(E)将纤维素纳米纤维溶液涂布于一硅胶薄膜上；(F)对涂布后的硅胶薄膜进行一加热处理，以在硅胶薄膜的表面上形成一纤维素纳米纤维层；以及(G)以原子层沉积法(Atomic Layer Deposition，ALD)在具有纤维素纳米纤维层的硅胶薄膜表面形成一无机镀膜层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 优化 原子 沉积 方法 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
