[发明专利]层叠基板、自支撑基板、层叠基板的制造方法及自支撑基板的制造方法在审
申请号: | 201911222448.7 | 申请日: | 2019-12-03 |
公开(公告)号: | CN111270307A | 公开(公告)日: | 2020-06-12 |
发明(设计)人: | 野口仁 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | C30B25/18 | 分类号: | C30B25/18;C30B29/04 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 张晶;谢顺星 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种具有可适用于电子器件及磁器件的、大口径且高品质的单晶金刚石(111)的层叠基板、大口径单晶金刚石(111)自支撑基板、所述层叠基板的制造方法及自支撑基板的制造方法。所述层叠基板为包含单晶金刚石(111)层的层叠基板,其包括基底基板、该基底基板上的中间层、及该中间层上的所述单晶金刚石(111)层,所述基底基板的主表面相对于晶面取向(111),在结晶轴[_1_1 2]方向或其三次对称方向上,以‑8.0°以上‑0.5°以下或+0.5°以上+8.0°以下的范围具有偏离角,所述单晶金刚石(111)层相对于晶面取向(111),在结晶轴[_1_1 2]方向或其三次对称方向上,以大于‑10.5°且小于‑2.0°或大于+2.0°且小于+10.5°的范围具有偏离角。 | ||
搜索关键词: | 层叠 支撑 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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