[发明专利]一种三轴MTJ磁场传感器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201911207892.1 申请日: 2019-11-30
公开(公告)号: CN110927637A 公开(公告)日: 2020-03-27
发明(设计)人: 曹凯华;赵巍胜;李智;冷群文 申请(专利权)人: 北京航空航天大学青岛研究院
主分类号: G01R33/09 分类号: G01R33/09
代理公司: 青岛中天汇智知识产权代理有限公司 37241 代理人: 王丹丹
地址: 266000 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开一种三轴MTJ磁场传感器及其制备方法,通过对基底进行斜坡处理并在斜坡上设置对应的垂直型固定层/面内型自由层正交的TMR磁传感器元件,实现三轴磁场检测;由于自由层不需要确定的磁面内各向异性,因此不需要将器件制备成长条型、椭圆形等形状各向异性,结构设计简单巧妙、集成度高;对于基底结构可通过MEMS工艺、或斜坡刻蚀等工艺实现,在斜坡处理后的基底上,沉积TMR磁传感器元件膜堆,然后通过光刻刻蚀形成磁隧道结区、底电极区,用绝缘介质填充光刻刻蚀形成的接触孔,光刻刻蚀形成电极完成制备,工艺设计简单、制备方便,而且该方案的三轴MTJ磁场传感器能够精确测量三轴磁场大小,具有较好的实际应用及推广价值。
搜索关键词: 一种 mtj 磁场 传感器 及其 制备 方法
【主权项】:
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