[发明专利]半导体器件在审

专利信息
申请号: 201911174474.7 申请日: 2019-11-26
公开(公告)号: CN111326515A 公开(公告)日: 2020-06-23
发明(设计)人: 李相遇;崔基雄;金成基 申请(专利权)人: 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 彭辉剑;龚慧惠
地址: 266000 山东省青岛市黄岛区*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 一种半导体器件包括:具有单元区域的基板;所述基板上的器件层;在所述单元区域中的器件层上的多个电容下电极,每个所述电容下电极的横截面具有U形轮廓,所述U形轮廓限定了的内表面;所述电容下电极的内表面上的电介质衬层;在所述电介质衬层上的SiGe层,其中,所述SiGe层具有Ge浓度分布,所述Ge浓度分布在SiGe层的中间部分具有最大值,并且沿厚度方向从所述中间部分向上减小且向下减小。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
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