[发明专利]上电极组件以及等离子体处理设备有效
| 申请号： | 201911156125.2 | 申请日： | 2019-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN112837985B | 公开（公告）日： | 2023-01-24 |
| 发明（设计）人： | 杨金全;黄允文 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王娇娇 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请实施例公开了一种上电极组件，安装基板与气体喷淋头之间设置有第一导热结构，以提高安装基板和气体喷淋头之间的热传导效果；而且，由于气体喷淋头包括主体部分和位于主体部分上的凸起部分，主体部分具有多个第一出气孔，凸起部分具有多个第二出气孔，第一出气孔和第二出气孔一一对应，第一出气孔和第二出气孔相连通构成出气孔，第二出气孔贯穿第一导热结构的第一通孔，并延伸至第一安装基板的第一通气孔中，从而在第一通气孔中通入的工艺气体经过第一导热结构时，第一导热结构上的微小颗粒需沿着凸起部分的侧壁和顶部之后沿出气孔才能被带到待处理基片上，因此，本申请上电极组件有利于降低所述微小颗粒对待处理基片产生污染。 | ||
| 搜索关键词： | 电极 组件 以及 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】：
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