[发明专利]显示屏的制备方法及显示屏结构在审
| 申请号： | 201911075793.2 | 申请日： | 2019-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN110767102A | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 刘召军;莫炜静;邱成峰 | 申请（专利权）人： | 深圳市思坦科技有限公司 |
| 主分类号： | G09F9/302 | 分类号： | G09F9/302 |
| 代理公司： | 11332 北京品源专利代理有限公司 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华区大浪街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种显示屏的制备方法及显示屏结构，显示屏的制备方法包括：在第一基板的第一侧面涂覆光刻胶，所述第一基板为显示屏的基板；在第一基板的第一侧面的光刻胶上覆盖掩膜版后对至少一个第一目标透光区进行曝光处理；待曝光处理完成后，将涂覆光刻胶的所述第一基板的第一侧面进行显影处理部分光刻胶；待显影处理完成后，在所述第一基板的第一侧面制备导电材料层；将第一基板的第一侧面浸入光刻胶溶剂中清除剩余的光刻胶以在第一基板的第一侧面形成至少一个凸起的第一导电电极。本发明的技术方案，通过在显示屏的基板上形成凸起的电极，解决了显多个显示屏幕拼接时间距过大问题，达到了减少多个显示屏幕拼接时间距的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 第一基板 光刻胶 侧面 显示屏 制备 曝光处理 显示屏幕 显影处理 基板 凸起 涂覆 拼接 导电材料层 光刻胶溶剂 显示屏结构 导电电极 浸入 透光区 掩膜版 电极 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种显示屏的制备方法，其特征在于，包括：/n在第一基板的第一侧面涂覆光刻胶，所述第一基板为显示屏的基板；/n在所述第一基板的所述第一侧面的光刻胶上覆盖掩膜版后对至少一个第一目标透光区进行曝光处理；/n待曝光处理完成后，将涂覆光刻胶的所述第一基板的所述第一侧面进行显影处理以清除部分光刻胶；/n待显影处理完成后，在所述第一基板的所述第一侧面制备导电材料层；/n将所述第一基板的所述第一侧面浸入光刻胶溶剂中清除剩余的光刻胶以在所述第一基板的所述第一侧面形成至少一个凸起的第一导电电极。/n
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