[发明专利]显示屏的制备方法及显示屏结构

权利要求书

1.一种显示屏的制备方法，其特征在于，包括：

在第一基板的第一侧面涂覆光刻胶，所述第一基板为显示屏的基板；

在所述第一基板的所述第一侧面的光刻胶上覆盖掩膜版后对至少一个第一目标透光区进行曝光处理；

待曝光处理完成后，将涂覆光刻胶的所述第一基板的所述第一侧面进行显影处理以清除部分光刻胶；

待显影处理完成后，在所述第一基板的所述第一侧面制备导电材料层；

将所述第一基板的所述第一侧面浸入光刻胶溶剂中清除剩余的光刻胶以在所述第一基板的所述第一侧面形成至少一个凸起的第一导电电极。

2.根据权利要求1所述的显示屏的制备方法，其特征在于，所述第一基板还包括至少一个第一导线，所述至少一个第一导线为扫描导线和/或数据导线，所述第一导线包括设于所述第一基板内部的第一驱动段和裸露于所述第一基板的所述第一侧面的第一拼接段，所述第一拼接段与所述至少一个第一目标透光区对应。

3.一种显示屏的制备方法，其特征在于，包括：

在第二基板的第二侧面涂覆光刻胶，所述第二基板为显示屏的基板；

在所述第二基板的所述第二侧面的光刻胶上覆盖掩膜版后对至少一个第二目标透光区进行曝光处理；

待曝光处理完成后，将涂覆光刻胶的所述第二基板的所述第二侧面进行显影处理部分光刻胶；

待显影处理完成后，将所述第二基板的所述第二侧面进行刻蚀处理，以将所述第二基板的所述第二侧面刻蚀形成凹槽；

待刻蚀处理完成后，在所述第二基板的所述第二侧面制备导电材料层；

将所述第二基板的所述第二侧面浸入光刻胶溶剂中清除剩余的光刻胶以在所述第二基板的所述第二侧面形成至少一个内嵌于所述凹槽内的第二导电电极。

4.根据权利要求3所述的显示屏的制备方法，其特征在于，所述第二侧面还包括至少一个第二导线，所述至少一个第二导线为扫描导线和/或数据导线，所述第二导线包括设于所述第二基板内部的第二驱动段和裸露于所述第二基板的所述第二侧面的第二拼接段，所述第二拼接段与所述至少一个第二目标透光区对应。

5.一种显示屏结构，其特征在于，包括：

第三基板，所述第三基板为显示屏的基板，所述第三基板的第三侧面包括至少一个第三导电电极，所述第三导电电极相对于所述第三基板的所述第三侧面凸起，所述至少一个第三导电电极与至少一个第三导线一一对应相连，所述至少一个第三导线为扫描导线和/或数据导线。

6.根据权利要求5所述的显示屏结构，其特征在于，所述显示屏结构包括至少两个第三基板，所述至少两个第三基板通过所述第三导电电极相连，所述第三导电电极一一对应连接。

7.一种显示屏结构，其特征在于，包括：

第四基板，所述第四基板为显示屏的基板，所述第四基板的第四侧面包括至少一个第四导电电极，所述第四导电电极相对于所述第四基板的所述第四侧面凹陷，所述至少一个第四导电电极与至少一个第四导线一一对应相连，所述至少一个第四导线为扫描导线和/或数据导线。

8.根据权利要求5和7所述的显示屏结构，其特征在于，所述显示屏结构包括至少一个所述第三基板和至少一个所述第四基板，所述第三导电电极和所述第四导电电极相连以将至少一个所述第三基板和至少一个所述第四基板连接。

9.一种显示屏结构，其特征在于，包括：

第五基板，所述第五基板为显示屏的基板，所述第五基板的包括至少一个第五导电电极和至少一个第六导电电极，所述第一导电电极相对于所述第五基板的所述第五侧面凸起，所述第二导电电极相对于所述第五基板的所述第五侧面凹陷，所述第五导电电极与扫描导线或数据导线一一对应相连，所述第六导电电极与扫描导线或数据导线一一对应相连。

10.根据权利要求9所述的显示屏结构，其特征在于，所述显示屏结构包括至少两个第五基板，所述第五导电电极与所述第六导电电极相连以将至少两个所述第五基板连接。