[发明专利]显示屏的制备方法及显示屏结构在审

专利信息
申请号: 201911075793.2 申请日: 2019-11-06
公开(公告)号: CN110767102A 公开(公告)日: 2020-02-07
发明(设计)人: 刘召军;莫炜静;邱成峰 申请(专利权)人: 深圳市思坦科技有限公司
主分类号: G09F9/302 分类号: G09F9/302
代理公司: 11332 北京品源专利代理有限公司 代理人: 孟金喆
地址: 518000 广东省深圳市龙华区大浪街*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 第一基板 光刻胶 侧面 显示屏 制备 曝光处理 显示屏幕 显影处理 基板 凸起 涂覆 拼接 导电材料层 光刻胶溶剂 显示屏结构 导电电极 浸入 透光区 掩膜版 电极 覆盖
【说明书】:

发明公开了一种显示屏的制备方法及显示屏结构,显示屏的制备方法包括:在第一基板的第一侧面涂覆光刻胶,所述第一基板为显示屏的基板;在第一基板的第一侧面的光刻胶上覆盖掩膜版后对至少一个第一目标透光区进行曝光处理;待曝光处理完成后,将涂覆光刻胶的所述第一基板的第一侧面进行显影处理部分光刻胶;待显影处理完成后,在所述第一基板的第一侧面制备导电材料层;将第一基板的第一侧面浸入光刻胶溶剂中清除剩余的光刻胶以在第一基板的第一侧面形成至少一个凸起的第一导电电极。本发明的技术方案,通过在显示屏的基板上形成凸起的电极,解决了显多个显示屏幕拼接时间距过大问题,达到了减少多个显示屏幕拼接时间距的效果。

技术领域

本发明实施例涉及显示屏的制备技术,尤其涉及一种显示屏的制备方法及显示屏结构。

背景技术

目前高分辨率的显示屏尺寸都不大,例如显示屏的尺寸一般在100英寸以下。在一些有大显示屏需求的场合,通常是将多个显示屏拼接,形成超大尺寸的拼接屏,以满足大显示屏需求。

现有的显示屏拼接方法,一般是简单的物理拼接,由于普通的显示屏的基板边缘需要将内部导线包裹在内,导致显示屏的基板边缘结构偏厚,受限于显示屏的基板的边缘结构,在拼接屏工作时,拼接缝隙较宽,可达1-2cm,视觉体验较差;并且由于现有显示屏的边缘结构将内部的导线完全包裹不外露,拼接时各个显示屏之间不能直接进行连接。

发明内容

本发明提供一种显示屏的制备方法及显示屏结构,以实现通过直接连接显示屏的基板,减少多个显示屏幕拼接时的间距。

第一方面,本发明实施例提供了一种显示屏的制备方法,包括:

在第一基板的第一侧面涂覆光刻胶,所述第一基板为显示屏的基板;

在所述第一基板的所述第一侧面的光刻胶上覆盖掩膜版后对至少一个第一目标透光区进行曝光处理;

待曝光处理完成后,将涂覆光刻胶的所述第一基板的所述第一侧面进行显影处理以清除部分光刻胶;

待显影处理完成后,在所述第一基板的所述第一侧面制备导电材料层;

将所述第一基板的所述第一侧面浸入光刻胶溶剂中清除剩余的光刻胶以在所述第一基板的所述第一侧面形成至少一个凸起的第一导电电极。

可选的,所述第一基板还包括至少一个第一导线,所述至少一个第一导线为扫描导线和/或数据导线,所述第一导线包括设于所述第一基板内部的第一驱动段和裸露于所述第一基板的所述第一侧面的第一拼接段,所述第一拼接段与所述至少一个第一目标透光区对应。

第二方面,本发明实施例提供了一种显示屏的制备方法,包括:

在第二基板的第二侧面涂覆光刻胶,所述第二基板为显示屏的基板;

在所述第二基板的所述第二侧面的光刻胶上覆盖掩膜版后对至少一个第二目标透光区进行曝光处理;

待曝光处理完成后,将涂覆光刻胶的所述第二基板的所述第二侧面进行显影处理部分光刻胶;

待显影处理完成后,将所述第二基板的所述第二侧面进行刻蚀处理,以将所述第二基板的所述第二侧面刻蚀形成凹槽;

待刻蚀处理完成后,在所述第二基板的所述第二侧面制备导电材料层;

将所述第二基板的所述第二侧面浸入光刻胶溶剂中清除剩余的光刻胶以在所述第二基板的所述第二侧面形成至少一个内嵌于所述凹槽内的第二导电电极。

可选的,所述第二侧面还包括至少一个第二导线,所述至少一个第二导线为扫描导线和/或数据导线,所述第二导线包括设于所述第二基板内部的第二驱动段和裸露于所述第二基板的所述第二侧面的第二拼接段,所述第二拼接段与所述至少一个第二目标透光区对应。

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