[发明专利]一种石墨烯薄膜卷对卷生产装置及方法在审
| 申请号： | 201911061281.0 | 申请日： | 2019-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN110629191A | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 彭海琳;杨倩;董广成;查冰杰;刘忠范 | 申请（专利权）人： | 北京大学;北京石墨烯研究院 |
| 主分类号： | C23C16/26 | 分类号： | C23C16/26;C23C16/54;C01B32/186 |
| 代理公司： | 11438 北京律智知识产权代理有限公司 | 代理人： | 阚梓瑄;孙宝海 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种石墨烯薄膜卷对卷生产装置及方法，装置包括真空腔、真空泵组件以及工艺气体通入组件，还包括至少一监测组件以及参数控制组件，真空腔包括依次连通的放卷腔、生长腔和收卷腔，其中一个监测组件连接于生长腔，用以获得位于生长腔内的石墨烯薄膜的第一表征参数，并将第一表征参数与一第一设定表征参数比较获得一第一比较结果；参数控制组件连接于至少一监测组件，用以响应第一比较结果，并调控各项工艺气体通入量及比例和/或所述生长腔温度和/或生长基底运动速度和/或所述生长腔内压强，以使第一表征参数等于第一设定表征参数。 | ||
| 搜索关键词： | 表征参数 生长腔 监测组件 石墨烯薄膜 参数控制 工艺气体 真空腔 压强 卷对卷生产 真空泵组件 依次连通 组件连接 生长基 放卷 收卷 调控 响应 | ||
【主权项】：
1.一种石墨烯薄膜卷对卷生产装置，包括真空腔、真空泵组件以及工艺气体通入组件，其特征在于，还包括至少一监测组件以及参数控制组件，所述真空腔包括依次连通的放卷腔、生长腔和收卷腔，其中一个所述监测组件连接于所述生长腔，用以获得位于所述生长腔内的石墨烯薄膜的第一表征参数，并将所述第一表征参数与一第一设定表征参数比较获得一第一比较结果；/n所述参数控制组件连接于所述至少一监测组件，用以响应所述第一比较结果，并调控各项工艺气体通入量及比例和/或所述生长腔温度和/或生长基底运动速度和/或所述生长腔内压强，以使所述第一表征参数等于所述第一设定表征参数。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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