[发明专利]一种PED样品及其制备方法有效
| 申请号： | 201911029698.9 | 申请日： | 2019-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN110687144B | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 邹锭 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G01N23/20058 | 分类号： | G01N23/20058;G01N23/20008 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 杨华 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种PED样品及其制备方法，包括：提供待切割器件；对所述待切割器件进行切割形成待制备样品，所述待制备样品包括衬底、设置在所述衬底上的多个间隔排列的待量测结构和位于所述待测量结构之间的干扰结构；向所述待量测结构之间的区域通入离子刻蚀加强气体，利用所述离子刻蚀加强气体去除所述待量测结构之间的干扰结构，从而可以排除干扰结构对待量测结构量测准确度的影响，进而可以提高待量测结构如沟道孔内多晶硅层晶粒尺寸的量测准确度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ped 样品 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种PED样品的制备方法，其特征在于，包括：/n提供待切割器件；/n对所述待切割器件进行切割形成待制备样品，所述待制备样品包括衬底、设置在所述衬底上的多个间隔排列的待量测结构和位于所述待测量结构之间的干扰结构；/n向所述待量测结构之间的区域通入离子刻蚀加强气体，利用所述离子刻蚀加强气体去除所述待量测结构之间的干扰结构。/n
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