[发明专利]基于零空间介质的超分辨成像方法、成像器件及装置在审
| 申请号： | 201910951960.9 | 申请日： | 2019-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN110794589A | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 何赛灵;孙非 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G02B27/58 | 分类号： | G02B27/58 |
| 代理公司： | 33200 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人： | 林松海 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了基于零空间介质的超分辨成像方法、成像器件及装置。物面和像面都是平面，物面和像面之间采用多个各向异性的光学零空间介质连接，每个光学零空间介质有且仅具有一个主轴方向，各个光学零空间介质之间主轴方向相同或者不同，沿着主轴方向上的介电常数和磁导率的值较大，垂直于主轴方向上的介电常数和磁导率的值较小；物面上的电磁场分布被光学零空间介质沿着主轴方向经过一次或者多次投影到像面，成像放大倍率在物面任意位置都相同，等于像面和物面的面积比。本发明可以获得超分辨成像，可以直接成像无需任何扫描。本发明的超分辨结构也可以逆向应用于纳米压印、缩小成像等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 主轴方向 零空间 像面 物面 超分辨成像 介电常数 磁导率 成像放大倍率 电磁场分布 成像器件 纳米压印 缩小成像 直接成像 超分辨 面积比 投影 垂直 扫描 应用 | ||
【主权项】：
1.一种基于零空间介质的超分辨成像方法，其特征在于：物面和像面都是平面，物面和像面之间采用多个各向异性的光学零空间介质连接，每个光学零空间介质有且仅具有一个主轴方向，各个光学零空间介质之间主轴方向相同或者不同，沿着主轴方向上的介电常数和磁导率的值较大，垂直于主轴方向上的介电常数和磁导率的值较小；物面上的电磁场分布被光学零空间介质沿着主轴方向经过一次或者多次投影到像面，成像放大倍率在物面任意位置都相同，等于像面和物面的面积比。/n
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