[发明专利]一种组合式真空镀膜系统的生产方法

摘要

本发明公开了一种组合式真空镀膜系统的生产方法，包括腔室（10），Z和旋转操纵器单元，靶支架单元（50），加热元件单元（40），辐射屏蔽单元（11,11a，103）和单位（100,101,102）基于涂覆方法。在此，组合涂覆真空系统的涂覆方法使用溅射源，蒸发源，热源，电子束源，喷射池，坩埚和衬里，离子蚀刻源和激光沉积源方法。提供一种生产组合式真空镀膜系统的方法，该方法仅在具有从单个系统获得的优点的情况下应用于组合式系统，并保持在组合式涂覆系统中建立的最佳状态。

主权项

1.在根据集成共涂覆真空系统的涂覆方法的用于真空涂覆的集成真空涂覆设备中,该表面在抛光后经过电解处理，并在腔室的外壁上具有一个或多个备用端口，并通过O形圈密封；被拉入箱门腔并被驱动旋转和喷射运动，包括电动机，符合IS0的法兰，波纹管，手柄，齿轮，行程计和目标支架，以保持目标支架的恒定温度分布一种机械手，其具有插入有冷却管的冷却套，一种底板，在IS0标准法兰上装有两个或多个信号源，并具有备用端口，以便以后可以根据用户的选择轻松更换；和包括；安装在腔室部分内壁上的辐射悬架，该源的特征在于，来自由溅射源，蒸发源，热源，电子束源，epizone电池源，可固化衬里源，离子源或激光沉积源组成的源群中的至少两个或更多个被组合，集成式真空镀膜单元，包含一般独立的镀膜单元。/n