[发明专利]一种组合式真空镀膜系统的生产方法

说明书

本发明公开了一种组合式真空镀膜系统的生产方法，包括腔室（10），Z和旋转操纵器单元，靶支架单元（50），加热元件单元（40），辐射屏蔽单元（11,11a，103）和单位（100,101,102）基于涂覆方法。在此，组合涂覆真空系统的涂覆方法使用溅射源，蒸发源，热源，电子束源，喷射池，坩埚和衬里，离子蚀刻源和激光沉积源方法。提供一种生产组合式真空镀膜系统的方法，该方法仅在具有从单个系统获得的优点的情况下应用于组合式系统，并保持在组合式涂覆系统中建立的最佳状态。

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，具体为一种组合式真空镀膜系统的生产方法。

背景技术

本发明试图将每个独立涂层领域的优点最佳地配置到一个集成涂层系统中。特别地，本发明的另一个目的是安装辐射防护罩以防止腔室的污染和热扩散，并分别根据涂覆目的和材料（基质胶）的特性以及操作的便利性来选择和更换靶支架。通过各种方法将新的组件（例如选择腔室形状以最大化性能）应用于各种不同方法的实验研究和生产，以实现第三次涂层开发。

发明内容

本发明涉及一种集成涂层系统，其中每个独立的系统被捆绑到一个单独的腔室中，例如电子束腔室，溅射腔室，热蒸发腔室等。它涉及一种配置和操作的系统制造方法。

本发明的集成涂覆系统能够通过使用第三种材料，即另一种涂覆方法来获得目标，该第三种材料在保持每个独立涂覆系统的特性的同时，不会在一般涂覆系统中获得，并且污染了腔室内部。尽量保持克制。另外，通过更换辐射屏蔽罩，可以减少清洁时间并减少人力浪费，并且由于腔室的形状适用于箱门式，因此可以轻松进行A/S。

另外，本发明的特征之一是操纵器的安装，该操纵器能够随着目标支架的旋转和射流（Z）运动而移动。这是因为在涂覆方法中，由于对目标的瞄准和位置（距离）的选择非常重要，因此可以通过改变传统的位置固定方式来实现最佳涂覆。另外，在使用热源时，高压馈电回转经过专门设计来改变位置调节，并且可以安装任何类型的热源，并且可以上下调节快门。确实如此。

另外，在进行常规靶加热器的安装以完全通过固定（固定）来防止应用的情况下，将根据涂层性能选择本发明的生产设备并通过安装PBN加热器，SiC加热器，FeCrAl加热器等来代替。

另外，在安装靶架时，本发明可以根据靶的特性来安装普通的靶架，并且在对腔室大气温度或温度敏感的靶的情况下，可以通过将其变为水冷套型来进行安装，测试，研究和生产。

如上所述，在本发明中，在每个独立设备中获得的涂覆方法仅利用了集成的优势，从而降低了设备采购成本和制造成本，并通过共涂覆获得了第三样品，并且还在产品开发，研究和生产的过程中。本发明将具有防止由于迁移引起的质量下降的效果。

附图说明

图1是根据本发明实施例的安装在集成真空镀膜系统的腔室中的组件的视图；

图2是本发明的一些组件的剖视图；

图3是制造本发明的一些部件的剖视图；

图4是图3的部件安装制造图；

图5是图2的部件安装制造图；

图6是示出根据本发明的部件的安装的剖视图；

图7是本发明的部件的截面图；

图8是本发明的构造和制造截面图。