[发明专利]一种高深宽比结构斜齿光栅板的制作方法及光栅板有效
| 申请号： | 201910869991.X | 申请日： | 2019-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN110658575B | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 岳力挽;毛智彪;顾大公;马潇;许从应 | 申请（专利权）人： | 宁波南大光电材料有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 | 代理人： | 贾振勇 |
| 地址： | 315800 浙江省宁波市北仑区*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明适用于光学全息成像技术领域，提供了一种高深宽比结构斜齿光栅板的制作方法及光栅板，其中，方法包括：对衬底进行直角刻蚀形成凹槽；对所述凹槽的一侧进行斜角刻蚀形成第一斜角；在形成所述第一斜角的衬底上设置第一介质膜并进行晶圆键合形成倒斜角；对形成所述倒斜角的衬底进行斜角刻蚀形成第二斜角，得到斜齿光栅板；在所述非对称斜齿光栅板上设置第二介质膜，进行键合及刻蚀形成高深宽比结构斜齿光栅板。本发明能够形成高深宽比结构斜齿光栅板，有利于增强光学全息成像的效果，且通过投影式光刻方式结合晶圆键合制作所述高深宽比结构斜齿光栅板，可以加快制作速度，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高深 结构 光栅 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种高深宽比结构斜齿光栅板的制作方法，其特征在于，包括步骤:/n对衬底进行直角刻蚀形成凹槽；/n对所述凹槽的一侧进行斜角刻蚀形成第一斜角；/n在形成所述第一斜角的衬底上设置第一介质膜并进行晶圆键合形成倒斜角；/n对形成所述倒斜角的衬底进行斜角刻蚀形成第二斜角，得到非对称斜齿光栅板；/n在所述非对称斜齿光栅板上设置第二介质膜，进行键合及刻蚀形成高深宽比结构斜齿光栅板。/n
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