[发明专利]一种高深宽比结构斜齿光栅板的制作方法及光栅板

权利要求书

1.一种高深宽比结构斜齿光栅板的制作方法，其特征在于，包括步骤:

对衬底进行直角刻蚀形成凹槽；

对所述凹槽的一侧进行斜角刻蚀形成第一斜角；

在形成所述第一斜角的衬底的凹槽内设置所述第一介质膜形成介质膜凹槽；

对形成所述介质膜凹槽的衬底进行研磨及晶圆键合；

将完成所述晶圆键合的衬底进行翻转，对介质膜凹槽上层的衬底进行研磨；

对研磨后的衬底进行刻蚀，去除所述介质膜凹槽内的所述第一介质膜，形成倒斜角；

对形成所述倒斜角的衬底进行斜角刻蚀形成第二斜角，第二斜角对应的第二斜边与第一斜角翻转过后形成的倒斜角对应的倒斜边平行且等长，得到非对称斜齿光栅板；

在所述非对称斜齿光栅板上设置第二介质膜进行全覆盖，对所述非对称斜齿光栅板上表面进行研磨，去除所述第二介质膜；

研磨后的两片所述非对称斜齿光栅板进行键合，上层的所述非对称斜齿光栅板及下层的所述非对称斜齿光栅板形成有所述第二介质膜的部分位置对应；

对键合后的上层所述非对称斜齿光栅板进行研磨，去除上层所述第二介质膜上表面的衬底；

通过刻蚀去除所述非对称斜齿光栅板的所述第二介质膜，并多次重复执行设置第二介质膜、研磨、键合、再研磨以及刻蚀的过程，形成高深宽比结构斜齿光栅板。

2.如权利要求1所述的高深宽比结构斜齿光栅板的制作方法，其特征在于，所述对所述凹槽的一侧进行斜角刻蚀形成第一斜角的步骤具体包括：

将光掩膜板对应所述凹槽的位置向所述凹槽的第一侧偏离设置；

对已形成所述凹槽的衬底上的光刻胶进行光刻，并对中间层进行刻蚀，使所述凹槽的第一侧直角区域露出、第二侧直角区域保留所述光刻胶的覆盖；

对所述凹槽的第一侧直角区域进行刻蚀形成所述第一斜角。

3.如权利要求2所述的高深宽比结构斜齿光栅板的制作方法，其特征在于，所述对形成所述倒斜角的衬底进行斜角刻蚀形成第二斜角，得到斜齿光栅板的步骤具体包括：

将所述光掩膜板对应形成所述倒斜角的衬底的位置向所述衬底的第一侧偏离设置；

对已形成所述倒斜角的衬底上的光刻胶进行光刻，并对中间层进行刻蚀，使形成所述倒斜角的凹槽第一侧直角区域露出、第二侧倒斜角区域保留所述光刻胶的覆盖；

对形成所述倒斜角的凹槽的第一侧直角区域进行刻蚀形成所述第二斜角，得到斜齿光栅板。

4.如权利要求2所述的高深宽比结构斜齿光栅板的制作方法，其特征在于，对衬底进行直角刻蚀形成凹槽的步骤具体包括：

将所述光掩膜板设置在所述衬底正上方；

对形成在所述衬底上的光刻胶进行光刻，并对中间层进行刻蚀；

对所述衬底进行所述直角刻蚀形成凹槽。

5.如权利要求2所述的高深宽比结构斜齿光栅板的制作方法，其特征在于，在将光掩膜板对应所述凹槽的位置向所述凹槽的第一侧偏离设置的步骤之前，还包括步骤：

除去已形成所述凹槽的衬底上的所述光刻胶及中间层；

对已形成所述凹槽的衬底重新旋涂光刻胶及中间层进行完整覆盖。

6.一种光栅板，其特征在于，包括权利要求1-5任一所述的高深宽比结构斜齿光栅板的制作方法制作的光栅板。