[发明专利]一种多晶硅坩埚涂层及其制备方法在审
申请号: | 201910860626.2 | 申请日: | 2019-09-11 |
公开(公告)号: | CN110577404A | 公开(公告)日: | 2019-12-17 |
发明(设计)人: | 曾磊;张乃文;张玉玉;纪杨 | 申请(专利权)人: | 山东大海新能源发展有限公司 |
主分类号: | C04B35/584 | 分类号: | C04B35/584;C04B35/622;C30B28/06;C30B29/06 |
代理公司: | 11253 北京中北知识产权代理有限公司 | 代理人: | 段秋玲 |
地址: | 257300 山东省东营市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种多晶硅坩埚涂层及其制备方法,包括,氮化硅重量百分比为15‑25%,氧化剂重量百分比为5‑15%,粘合剂重量百分比为5‑20%,分散剂重量百分比为60‑70%。按比例称取氮化硅粉末、氧化剂、粘合剂和分散剂混合搅拌成均匀的混合液;混合液通过喷涂设备进行二次喷涂,均匀喷涂于坩埚内壁后低温烘干;低温烘干结束后,将坩埚放入烧结炉内900‑1000℃烧结2‑3小时,烧结完成后在1小时内降至室温25℃。所得氮化硅涂层与坩埚具有极佳的粘结力,附着牢固,不易脱落;氮化硅涂层厚度为200μm‑600μm,可以完全阻隔硅液与二氧化硅以及其他杂质发生反应,有效避免了坩埚及杂质对硅的污染。 | ||
搜索关键词: | 重量百分比 坩埚 氧化剂 氮化硅涂层 粘合剂 低温烘干 烧结 分散剂 混合液 氮化硅粉末 二次喷涂 二氧化硅 均匀喷涂 喷涂设备 坩埚内壁 坩埚涂层 氮化硅 多晶硅 烧结炉 粘结力 称取 放入 硅液 附着 制备 阻隔 污染 | ||
【主权项】:
1.一种多晶硅坩埚涂层,包括:氮化硅,氧化剂,粘合剂,分散剂,其特征在于:氮化硅重量百分比为15-25%,氧化剂重量百分比为5-15%,粘合剂重量百分比为5-20%,分散剂重量百分比为60-70%。/n
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