[发明专利]一种具有热点结构的等离子体多孔结构及其制备方法在审
| 申请号： | 201910812156.2 | 申请日： | 2019-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN110629175A | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 陈东圳;张宇;张萌;付涛;贺辛亥;宋忠孝 | 申请（专利权）人： | 西安工程大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16 |
| 代理公司： | 61214 西安弘理专利事务所 | 代理人： | 王蕊转 |
| 地址： | 710048 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有热点结构的等离子体多孔结构，包括承载基体以及沉积于承载基体的等离子体多孔结构，等离子体多孔结构上形成有多个孔，多个孔的至少一部分通过韧带相互连接。本发明还公开了该等离子体多孔结构的制备方法，具体包括如下步骤：步骤1：清洗硅片，将硅片放入去离子水中浸泡，然后将硅片取出并用纯氮气吹干；步骤2：将清洁后的硅片送入磁控溅射镀膜设备中，通入氩气气氛，保持恒定气氛压力，随后进行银、钽元素共溅射，然后可制备出具有热点结构的等离子体多孔结构；本发明通过精确调控银、钽沉积速率制备出的等离子体纳米孔结构具有热点密度较高，吸附能力强、表面粗糙度高和光传输能力强的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 多孔结构 硅片 制备 承载基体 磁控溅射镀膜设备 恒定 表面粗糙度 光传输能力 精确调控 气氛压力 水中浸泡 吸附能力 氩气气氛 韧带 纯氮气 共溅射 纳米孔 钽沉积 钽元素 沉积 吹干 放入 离子 清洗 送入 取出 并用 清洁 | ||
【主权项】：
1.一种具有热点结构的等离子体多孔结构，其特征在于，包括承载基体以及沉积于所述承载基体的等离子体多孔结构，所述等离子体多孔结构上形成有多个孔，多个所述孔的至少一部分通过韧带相互连接。/n
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