[发明专利]一种利用干涉光照射辅助刻蚀的装置和方法在审
| 申请号： | 201910792511.4 | 申请日： | 2019-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN110444494A | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | 陈云;施达创;姚瑶;陈新;高健;刘强;贺云波;汪正平;赵铌 | 申请（专利权）人： | 广东工业大学 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/306 |
| 代理公司： | 佛山市禾才知识产权代理有限公司 44379 | 代理人： | 朱培祺;梁永健 |
| 地址： | 510006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种利用干涉光照射辅助刻蚀的装置，包括基座、六自由度平台、反应隔离腔、搅拌器和刻蚀液容器；所述六自由度平台设置在所述基座的底部，所述反应隔离腔设置在所述基座的顶部；所述刻蚀液容器设置在所述反应隔离腔内，所述搅拌器从所述反应隔离腔的顶部伸入到所述刻蚀液容器内；所述刻蚀液容器的底部开口，所述刻蚀液容器的底部开口处固定待加工样品；所述六自由度平台搭载光源，所述基座和反应隔离腔的底部均设有光路通孔，所述反应隔离腔的光路通孔内设有光学滤镜。六自由度平可驱动照射光源实现周期性摆动和转动，以均匀的干涉条纹在待加工样品背面补偿照射，从而引导待加工样品刻蚀形成几何尺寸高度可控的微纳结构。 | ||
| 搜索关键词： | 隔离腔 刻蚀液容器 六自由度平台 刻蚀 照射 底部开口 光路通孔 干涉光 搅拌器 加工 周期性摆动 干涉条纹 光学滤镜 六自由度 微纳结构 照射光源 可控的 伸入 光源 转动 背面 驱动 | ||
【主权项】：
1.一种利用干涉光照射辅助刻蚀的装置，其特征在于：包括基座、六自由度平台、反应隔离腔、搅拌器和刻蚀液容器；所述六自由度平台设置在所述基座的底部，所述反应隔离腔设置在所述基座的顶部；所述刻蚀液容器设置在所述反应隔离腔内，所述搅拌器从所述反应隔离腔的顶部伸入到所述刻蚀液容器内；所述刻蚀液容器的底部开口，所述刻蚀液容器的底部开口处固定待加工样品；所述六自由度平台搭载光源，所述基座和反应隔离腔的底部均设有光路通孔，所述反应隔离腔的光路通孔内设有光学滤镜；所述光源发出的光从所述基座的底部顺次穿过所述基座和反应隔离腔照射到所述刻蚀液容器的底部的待加工样品上并形成干涉条纹。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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