[发明专利]射频线圈、反应腔室及半导体加工设备有效
| 申请号： | 201910783531.5 | 申请日： | 2019-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN110491761B | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | 牛晨 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种射频线圈、反应腔室及半导体加工设备，该射频线圈包括具有空腔的线圈本体，线圈本体的一端为与射频电源电连接的射频连接端，另一端为接地端；并且，在空腔中设置有加热元件，加热元件与线圈本体的内壁之间电绝缘，并且在线圈本体上设置有加热接口，用于引出加热元件的接线。本发明提供的射频线圈、反应腔室及半导体加工设备的技术方案，既实现射频线圈的功能，又实现对介质窗的加热，从而可以减少副产物在介质窗上的沉积，减少掉落到晶片表面的颗粒数量。 | ||
| 搜索关键词： | 射频 线圈 反应 半导体 加工 设备 | ||
【主权项】：
1.一种射频线圈，其特征在于，包括具有空腔的线圈本体，所述线圈本体的一端为与射频电源电连接的射频连接端，另一端为接地端；并且，在所述空腔中设置有加热元件，所述加热元件与所述线圈本体的内壁之间电绝缘，并且在所述线圈本体上设置有加热接口，用于引出所述加热元件的接线。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方华创微电子装备有限公司，未经北京北方华创微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910783531.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
