[发明专利]膜沉积系统以及在膜沉积系统中控制粒子的方法在审
| 申请号： | 201910745121.1 | 申请日： | 2019-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN110819954A | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 郭宗翰;汪柏澍;王伟民 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/46;H01J37/32 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 黄艳;郑特强 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开一些实施例提供一种使用粒子控制系统在沉积工艺中减少基板上的粒子污染的系统和方法，提供了膜沉积系统和在膜沉积系统中控制粒子的方法。在一些实施例中，膜沉积系统包括能密封以产生加压环境的工艺腔室，配置以在加压环境中包含等离子体、靶材以及基板；以及粒子控制单元，其中粒子控制单元被配置以提供外力到等离子体中的至少一个带电原子以及至少一个污染粒子的每一者，至少一个带电原子以及至少一个污染粒子是通过靶材与等离子体直接接触而产生，外力被配置以将至少一个带电原子引导朝向基板的顶表面，并将至少一个污染粒子引导远离基板的顶表面。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 系统 以及 控制 粒子 方法 | ||
【主权项】：
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