[发明专利]具备清洁功能的半导体工艺设备及其清洁方法有效
| 申请号： | 201910709772.5 | 申请日： | 2019-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN110400736B | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 金亨源;郑明教;郑熙锡 | 申请（专利权）人： | 吉佳蓝科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;B08B9/093 |
| 代理公司： | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人： | 冯志云;李英艳 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及具备清洁功能的半导体工艺设备及其清洁方法，包括：腔室，在内部提供基板处理空间；第一排气部，从所述腔室内部排放工艺气体；第一供气部，向所述腔室内部供应惰性气体；第二供气部，向所述腔室内部供应清洁气体而在所述腔室内部产生烟气；以及，第二排气部，从所述腔室内部排放所述惰性气体、所述清洁气体、所述烟气或者混合气体，所述混合气体混合有所述惰性气体、所述清洁气体和所述烟气。 | ||
| 搜索关键词： | 具备 清洁 功能 半导体 工艺设备 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种具备清洁功能的半导体工艺设备，其中，所述具备清洁功能的半导体工艺设备包括：腔室，在内部提供基板处理空间；第一排气部，从所述腔室内部排放工艺气体；第一供气部，向所述腔室内部供应惰性气体；第二供气部，向所述腔室内部供应清洁气体而在所述腔室内部产生烟气；以及，第二排气部，从所述腔室内部排放所述惰性气体、所述清洁气体、所述烟气或者混合气体，所述混合气体混合有所述惰性气体、所述清洁气体和所述烟气。
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