[发明专利]研磨垫在审

专利信息
申请号: 201910695402.0 申请日: 2019-07-30
公开(公告)号: CN110774172A 公开(公告)日: 2020-02-11
发明(设计)人: 龚俊豪;陈彦廷;黄惠琪;陈科维 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: B24B37/26 分类号: B24B37/26;B24B37/24
代理公司: 72003 隆天知识产权代理有限公司 代理人: 张福根;付文川
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 本公开提供一种研磨垫。本公开提供的研磨垫中,包括聚合物材料的微胶囊分散其中。本公开亦提供形成与采用研磨垫的方法。这些微胶囊设置为在修整工艺损伤研磨垫时破损打开,其释放聚合物材料。当聚合物材料接触紫外光,将部分固化以修复研磨垫的损伤。与标准研磨垫相较,此研磨垫具有较长的使用寿命与更稳定的移除速率。
搜索关键词: 研磨垫 聚合物材料 微胶囊 释放聚合物 工艺损伤 使用寿命 紫外光 固化 移除 破损 修整 损伤 修复
【主权项】:
1.一种研磨垫,包括:/n聚合材料的一基质;以及/n多个微胶囊分散于聚合物材料的该基质中,且该些微胶囊的每一者包括:/n一混合物,包括一聚合物材料与一光引发剂;以及/n一壳,围绕该混合物。/n
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