[发明专利]用于氧化铟层的蚀刻剂组合物有效
| 申请号： | 201910679544.8 | 申请日： | 2016-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN110484258B | 公开（公告）日： | 2022-01-14 |
| 发明（设计）人： | 金泰完;安基熏;李昔准 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/04 | 分类号： | C09K13/04 |
| 代理公司： | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人： | 钟锦舜;酒向飞 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了用于蚀刻氧化铟层的蚀刻剂组合物，蚀刻方法，使用它们的液晶显示器阵列基板及其制造方法，所述蚀刻剂组合物包括硝酸或亚硝酸、氯化合物、硝酸盐化合物和水。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 氧化 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
1.用于蚀刻氧化铟层的蚀刻剂组合物，其包括：基于所述蚀刻剂组合物的总重量，5至12wt％的硝酸或亚硝酸，0.01至5wt％的氯化合物，0.01至3wt％的硝酸盐化合物，和余量的水，使得所述蚀刻剂组合物的总重量是100wt％,/n其中所述氯化合物包括选自由氯化钠、氯化钾和氯化铵所组成的组中的至少一种，/n其中所述硝酸盐化合物包括选自由硝酸钠、硝酸铵和硝酸钾所组成的组中的至少一种。/n
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