[发明专利]一种无催化剂生长β-Ga2O3纳米线的方法在审

专利信息
申请号: 201910618963.0 申请日: 2019-07-10
公开(公告)号: CN110217815A 公开(公告)日: 2019-09-10
发明(设计)人: 谢超;陆星彤;马梦茹;罗林保 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: C01G15/00 分类号: C01G15/00;C23C14/16;C23C14/24;H01L31/032;H01L31/0352;B82Y40/00
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 卢敏
地址: 230009 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种无催化剂生长β‑Ga2O3纳米线的方法,是以水平管式炉作为反应装置,控制反应温度和气体流量等参数,通过VS生长机制获得高质量β‑Ga2O3纳米线。本发明的工艺简单、成本低廉、易于推广,且所得产物纯度高、电学和光学特性优异。
搜索关键词: 纳米线 无催化剂 生长 水平管式炉 产物纯度 反应装置 光学特性 气体流量 电学
【主权项】:
1.一种无催化剂生长β‑Ga2O3纳米线的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、以水平管式炉作为反应装置;将适量金属镓放入瓷舟中,再转移到水平管式炉的气流上游;将清洗并干燥的基片放入另一瓷舟中,并转移到水平管式炉的气流下游;步骤2、将管式炉内抽真空,然后通氧气,控制整个反应过程的氧气流量在20‑50sccm;升温至900‑1300℃,反应1h;步骤3、反应结束后,自然冷却至室温,取出,即在基片上获得β‑Ga2O3纳米线。
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