[发明专利]一种微透镜掩模版及其制备方法

摘要

本发明公开了一种微透镜掩模版及其制备方法，属于纳米光子器件技术领域，方法包括：在衬底上组装单层聚苯乙烯微球，形成第一样片；在第一样片上涂布第一胶体，刻蚀第一胶体以露出部分聚苯乙烯微球，形成第二样片；去除第二样片上的聚苯乙烯微球，得到球形空腔模具；在球形空腔模具填充第二光刻胶，并定型、曝光以固化第二光刻胶；分离第二光刻胶和球形空腔模具，得到可重复使用的微透镜掩模版。本发明制备的微透镜掩模版可在大面积辅助光刻微纳图案中重复使用，成本低周期短效率高。

主权项

1.一种微透镜掩模版制备方法，其特征在于：所述方法包括以下步骤：在衬底(1)上组装单层聚苯乙烯微球(2)，形成第一样片；在第一样片上涂布第一胶体(3)，刻蚀第一胶体(3)以露出部分聚苯乙烯微球(2)，形成第二样片；去除第二样片上的聚苯乙烯微球(2)，得到球形空腔模具；在球形空腔模具填充第二光刻胶(5)，并固化第二光刻胶(5)；分离第二光刻胶(5)和球形空腔模具，得到可重复使用的微透镜掩模版(8)。