[发明专利]一种微透镜掩模版及其制备方法

权利要求书

1.一种微透镜掩模版制备方法，其特征在于：所述方法包括以下步骤：

在衬底(1)上组装单层聚苯乙烯微球(2)，形成第一样片；

在第一样片上涂布第一胶体(3)，刻蚀第一胶体(3)以露出部分聚苯乙烯微球(2)，形成第二样片；

去除第二样片上的聚苯乙烯微球(2)，得到球形空腔模具；

在球形空腔模具填充第二光刻胶(5)，并固化第二光刻胶(5)；

分离第二光刻胶(5)和球形空腔模具，得到可重复使用的微透镜掩模版(8)。

2.根据权利要求1所述的一种微透镜掩模版制备方法，其特征在于：所述在衬底(1)上组装单层聚苯乙烯微球(2)还包括：

在衬底(1)上形成紧密排布的聚苯乙烯微球(2)；

刻蚀紧密排布的聚苯乙烯微球(2)，得到非紧密排布的聚苯乙烯微球(2)。

3.根据权利要求2所述的一种微透镜掩模版制备方法，其特征在于：所述在衬底(1)上形成紧密排布的聚苯乙烯微球(2)采用的是气液面组装法或旋涂法。

4.根据权利要求2所述的一种微透镜掩模版制备方法，其特征在于：所述刻蚀紧密排布的聚苯乙烯微球(2)是采用的RIE刻蚀法，以减小聚苯乙烯微球(2)的直径。

5.根据权利要求1所述的一种微透镜掩模版制备方法，其特征在于：所述第一胶体(3)具体为PMMA与氯仿的混合溶液胶体。

6.根据权利要求1所述的一种微透镜掩模版制备方法，其特征在于：所述第二光刻胶(5)为高透明的高分子聚合物。

7.根据权利要求1所述的一种微透镜掩模版制备方法，其特征在于：所述刻蚀第一胶体(3)是采用的IBE刻蚀(4)。

8.根据权利要求1所述的一种微透镜掩模版制备方法，其特征在于：所述去除第二样片上的聚苯乙烯微球(2)步骤前还包括： 将第二样片放置在加热台上加热，恢复第一胶体(3)表面的平整性。

9.根据权利要求1所述的一种微透镜掩模版制备方法，其特征在于：所述去除第二样片上的聚苯乙烯微球(2)是采用环己烷配合超声波将聚苯乙烯微球(2)去除。

10.采用权利要求1-9任意一项所述的一种微透镜掩模版制备方法制备的微透镜掩模版，其特征在于：所述微透镜掩模版(8)包括基片(82)和若干表面为球面的第一微透镜(81)，所述第一微透镜(81)和基片(82)是一体成型的，且所述第一微透镜(81)和所述基片(82)都采用的是高透明的高分子聚合物。