[发明专利]气体喷淋头及成膜腔室在审
申请号: | 201910578168.3 | 申请日: | 2019-06-28 |
公开(公告)号: | CN110195215A | 公开(公告)日: | 2019-09-03 |
发明(设计)人: | 梁鹏 | 申请(专利权)人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/46 |
代理公司: | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人: | 李姣姣 |
地址: | 065500 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明提供了一种气体喷淋头以及成膜腔室。该气体喷淋头包括:第一区域,设置有多个第一气孔;第二区域,设置有多个第二气孔;通过第一区域的单位面积的气体流量为第一气体流量,通过第二区域的单位面积的气体流量为第二气体流量,第一气体流量大于第二气体流量,使得基片上与喷淋头的第一区域对应的区域具有更大的气体流量,弥补了由于加热平台上的升降顶针区域温度低于加热平台的其他区域所造成的基片表面的整体成膜不均的问题,提高基片上成膜的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 气体流量 喷淋头 第一区域 第二区域 加热平台 成膜腔 基片表面 升降顶针 均匀性 成膜 | ||
【主权项】:
1.一种气体喷淋头,其特征在于,包括第一区域,设置有多个第一气孔;第二区域,设置有多个第二气孔;通过所述第一区域的单位面积的气体流量为第一气体流量,通过所述第二区域的单位面积的气体流量为第二气体流量,所述第一气体流量大于所述第二气体流量。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的