[发明专利]蒸镀用的精密金属掩膜版及其组件有效
| 申请号： | 201910408505.4 | 申请日： | 2019-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN110055493B | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 欧阳齐;王纯阳 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 一种蒸镀用的精密金属掩膜版及其组件，其中蒸镀用的精密金属掩膜版包括掩膜版本体，所述掩模版本体包括无蚀刻区、第一全蚀刻区及第二全蚀刻区。第一全蚀刻区连接所述无蚀刻区。所述第一全蚀刻区布设多个穿孔排。第二全蚀刻区连接所述第一全蚀刻区。所述第二全蚀刻区布设多个蒸镀孔排，各所述蒸镀孔排包括多个蒸镀孔，且各所述蒸镀孔的尺寸相同。各所述穿孔排的各穿孔的尺寸，由所述无蚀刻区朝所述第二全蚀刻区的方向逐渐变大，且邻近各所述蒸镀孔的各穿孔的尺寸与各所述蒸镀孔的尺寸相同。借此，使张力有效传导，减小泊松比差异导致的横向形变量不同，改善条纹的产生。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸镀用 精密 金属 掩膜版 及其 组件 | ||
【主权项】：
1.一种蒸镀用的精密金属掩膜版，包括:掩膜版本体，所述掩模版本体包括:无蚀刻区；第一全蚀刻区，连接所述无蚀刻区，所述第一全蚀刻区布设多个穿孔排，各所述穿孔排包括多个穿孔；及第二全蚀刻区，连接所述第一全蚀刻区，所述第二全蚀刻区布设多个蒸镀孔排，各所述蒸镀孔排包括多个蒸镀孔，且各所述蒸镀孔的尺寸相同；其中各所述穿孔排的各所述穿孔的尺寸，由所述无蚀刻区朝所述第二全蚀刻区的方向逐渐变大，且邻近各所述蒸镀孔的各所述穿孔的尺寸与各所述蒸镀孔的尺寸相同。
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